半導体製造研究室
50以上のフィルメトリクスF20が大学の半導体製造の教育研究室で使用されています。これは、F20が素早く、正確で経済的というだけでなく、その簡便なデザインにより、分光反射率の原理を学ぶための理想的なプラットフォームだからです(F20がどのように研究室で使用されているかをお知りになりたい場合、GoogleでFilmetrics Universityとタイプしてみてください。) また、数千のF20が世界中で使用されているため、学生の皆さんは仕事に就く前に役に立つトレーニングを受けているといえます。
フィルメトリクスは実験室クラスで使用する大学機関には特別ディスカウントで提供します。
半導体研究室用途へのご活用にはお問い合わせフォームで当社技術者までお問い合わせ下さい。
フィルメトリクスでは無料サンプルの測定を行っています。 - 結果は通常1~2日です。お問い合わせ
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アモルファスとポリシリコン
膜厚測定、結晶化度、全てのアモルファスとポリシリコンの屈折率と消衰係数
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CMP
F80膜厚測定システムは、酸化物、STI、金属CMPプロセスの測定に使用されています。
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誘電体
フィルメトリクスは産業界で使用される数千もの誘導体膜の測定システムを取り揃えています。
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ハードコート厚
フィルメトリクスのシステムはハードコートやプライマー厚を測定する自動車業界で幅広く使用されています。
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IC故障解析
F3-s1550はシリコンの裏面シニング測定をするチップ産業で使用されています。
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ITOとその他のTCO
当社独自の解析アルゴリズムにより、TCO厚、屈折率、消衰係数の測定が測定ボタン一つで可能です。
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医療デバイス
血管形成バルーン、ステント、インプラントコーティング、その他多数の膜厚を測定します。
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金属膜厚測定
金属膜の膜厚、屈折率、消衰係数を50nmまで測定します。
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OLED
NPB、lQ3、PEDOT、P3HT、soluble Teflons等の膜厚と屈折率を測定します。
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眼鏡コーティング
F10-ARで屈折率、色、反射防止、ハードコート層厚の測定が可能です。
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Paryleneコーティング
ParyleneコーティングサンプルをF3-CSのステージ上に置くだけで膜厚の測定が可能です。
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フォトレジスト
当社は数十もの異なるレジストを測定しており、屈折率ファイルもお使いのレジストに応じて作成できます。
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多孔質シリコン
多孔質シリコン膜の膜厚、多孔率、屈折率、消衰係数を測定します。
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プロセス膜
フィルメトリクスは半導体プロセス膜の測定用に完全なシステムを取り揃えています。
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屈折率と消衰係数
190-1700nm範囲の屈折率と消衰係数を測定
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シリコンウエハーと膜
フィルメトリクスはシリコンを2mm厚まで測定する為の卓上、マッピング、製造システムを取り揃えています。
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ソーラーアプリケーション
CdTe、CdS、CIGS、アモルファスシリコン、TCO、反射防止層、その他の膜厚を測定します。
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半導体教育研究機関
50台以上のF20が大学機関研究所で使用されています。
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ウェブコーティング
フィルメトリクスのシステムはインラインのポリマー膜厚測定用に幅広く使用されています。
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