プロセス膜
フィルメトリクスでは、非金属の半導体プロセス膜の膜厚と屈折率測定用の幅広い製品を提供しています。
F20はシングルポイントでの膜厚と屈折率を測定する最も安価な膜厚システムです。
顕微領域での測定（1ミクロンかそれ以下）には、F40をお使いの顕微鏡に取り付けてご利用いただけます。
ウエハー全体の膜厚の傾向を測定するには、サンプルの任意の場所を一ポイントずつ自動で測定し、マッピング表示するF50をお試しください。F80はパターン済製品ウエハーの膜厚マッピングが可能です。
F80は、Imaging Technology™ 技術（特許取得済み）で、従来の膜厚測定システムよりも、省スペースで、簡単に測定パラメータが設定でき、強力なパターン認識を備え、低いコストを実現しました。 単独型システム、統合システムの両方を取り揃えております。
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フィルメトリクスは無料お試し測定を行っています。- 結果は通常1～2日です。