アモルファス & ポリシリコン
元素シリコンはアモルファスや結晶の形で存在し、この両極端の中間に部分結晶シリコンが存在します。部分的に結晶したものはよく多結晶シリコン、または省略してポリシリコンと呼ばれます。
アモルファスとポリシリコンの光学定数(n と k)は析出条件に特有で、正確な厚さを計測しなければなりません。粗さやシリコン膜の結晶化度の格付けもまた考慮し、厚さとともに測定しなければなりません。
フィルメトリクスの測定システムは高機能測定方法を用い、測定ボタン一つで必要な個々のシリコン膜のパラメーターを同時に測定しレポートします。
お問い合わせフォームで貴社のアモルファスポリシリコンへのご活用について当社の技術者へお問い合わせ下さい。
フィルメトリクスは 無料お試し測定を行っています。 - 結果は大抵1-2日です。
測定例
ポリシリコンはシリコンを基盤とする電子デバイスに幅広く使われる材料です。これらデバイスの効率性は膜の光学及び構造用特性に依存します。これらの特性はデポジションやアニール条件の変化により変わるため、これらのパラメーターを正確に測定することは重要です。膜厚と光学特性は、シリコン基板とポリシリコン膜の間の光学コントラストを増加するためのSiO2中間膜を持つウエハーをモニターで測定されます。ポリシリコン膜の膜厚と光学特性とSiO2中間膜の膜厚がフィルメトリクスF20で容易に測定されました。ポリシリコン膜の光学特性の測定にはBruggeman光学モデルが用いられました。測定セットアップ:
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アモルファスとポリシリコン
膜厚測定、結晶化度、全てのアモルファスとポリシリコンの屈折率と消衰係数
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CMP
F80膜厚測定システムは、酸化物、STI、金属CMPプロセスの測定に使用されています。
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フィルメトリクスは産業界で使用される数千もの誘導体膜の測定システムを取り揃えています。
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