F30シリーズ

薄膜成膜プロセスの監視に最適システム

F30分光反射率システムでリアルタイムのデポジション率、膜厚、光学定数（屈折率と消衰係数）、半導体と誘電体層の均一性を測定します。

汎用な測定例

MBEとMOCVD成膜 : 滑らかな半透明膜、もしくは少し光吸収性がある膜を測定することができます。 主にはAlGaN、GaInAsPなどの半導体材料の測定に用いられてます。