F3-sXシリーズ

F3-sXは厚み3mmまでの半導体や誘電体の膜を測定可能です。一般的には、分厚い膜の粗さと表面平坦度は薄い膜よりひどいため、他の装置で測定するのは難しいですが、10umスポット光学系採用のF3-sX装置は簡単に測定できます。計測速度は1KHzまで対応可能のため、多数のインライン測定応用にも最適。

波長オプション

F3-sXは近赤外光(NIR)で人間の目には不透明に見える膜（半導体シリコン材料）を測定する。F3-s980は費用重視の測定要求に答えるため、開発された機種である。F3-s1310は高濃度不純物添加シリコンの測定に最適化機種。より膜の厚いサンプルの測定なら、F3-s1550機種がお薦めです。

アクセサリー

　　　　　　　　

自動マッピングステージ、測定箇所可視化の監視カメラと最低15nm厚み対応可視光分光計は全て、付属品として追加可能です。