Si, シリコン屈折率

シリコンは地上で2番目に最も共通する要素で、ほとんど全ての非光学半導体部品の元となります。光学的にシリコンはその屈折率と減衰係数が主な重要性となる検出器又は反射体として最も関心を引いています。

以下に表集計された屈折率は、結晶面が111であろうと100であろうとのサンプル表面に露出されます。ドーパントレベルもまたここで考慮される波長範囲(200～2500nm)で屈折率に極僅かな影響を及ぼします。シリコンは酸化環境に晒されると、ほぼ望ましいSiO2の表面層を形成します。シリコン上の非常に薄い膜の厚さ、あるいは屈折率を測定する場合、通常環境で形成される"天然の"酸化被膜が大抵考慮されなければなりません。

632.8nmでのSiの典型的なサンプルの 屈折率 と 減衰係数は 3.882と0.019 です。以下は屈折率と減衰係数の完全なファイルです。もしファイルのダウンロードがご利用いただけない場合、“リクエストする”をクリックし当社独自のファイルをリクエストしていただけます。

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屈折率参照 - Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik. Academic Press, Boston, 1985

D. E. Aspnes and J. B. Theeten (1980) "Spectroscopic Analysis of the Interface Between Si and Its Thermally Grown Oxide" J. Electrochem. Soc., Volume 127, Issue 6, pp. 1359-1365 doi :10.1149/1.2129899
Wikipedia: Silicon

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