測定対象

分光反射率 | 光学式形状測定

分光反射率

膜: ある程度透明な膜、又は全ての半導体の膜(透明、不透明)。少しは表面に光沢があること。

膜厚測定範囲:1nmから3mmまでの膜厚の測定が可能。屈折率の測定は膜厚70nmから10umまで可能。

単位 膜厚測定範囲
最低 最高
Å 10 10^8
nm 1 10^7
0.01 10^5
µm 0.001 10000
µm-in 0.04 40^4
mils 0.00004 400
mm 10^-6 10
g/cm^2 10^-7 1

膜厚が10nmを超える膜の屈折率も測定可能です (膜質により異なります)。

膜層の数:通常3層の個々の膜の測定が可能。 場合によって十層程度の測定も可能。

基板材料:表面に粗さがある基板上に膜がある場合(金属を含む)、膜の屈折率の測定は通常不可能。 また、表面に粗さがある基板は測定可能な最小膜厚を約50nmに制限。

必要な情報:測定されるか否かに関わらず、全ての膜の順番、膜の材料、想定される膜厚値の情報が必要です。


光学式形状測定

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